Electrónica

Lineas más finas para microchips

(NC&T) Su nueva técnica podría sentar las bases para la próxima generación de memorias de ordenador y de circuitos integrados así como de células solares avanzadas y otros dispositivos.

El equipo ha creado líneas de aproximadamente 25 nanómetros de ancho, separadas por espacios de 25 nanómetros.

A modo de comparación, los chips del ordenador más avanzado disponible comercialmente en la actualidad tienen un tamaño mínimo de las líneas de 65 nanómetros. Intel anunció recientemente que empezará a fabricar en el 2009 chips con líneas de ancho mínimo en la escala de los 32 nanómetros, y el mapa de ruta de la industria aboga por la adopción de los 25 nanómetros para el periodo del 2013 al 2015.

La técnica del MIT también podría ser económicamente atractiva porque funciona sin necesitar de las técnicas y herramientas de la litografía, las cuales son ampliamente consideradas como esenciales para trabajar a esta escala con la litografía óptica pero que no son baratas ni de uso fácil.

Litografía para microchips
Herramienta de litografía. (Foto: Ralf Heilmann)
Los patrones periódicos, en la escala nanométrica, si bien tienen muchas importantes aplicaciones científicas y comerciales, son notoriamente difíciles de producir con bajo costo y en cantidades industriales.

El nuevo método podría hacer posible la comercialización de muchas nuevas invenciones en el campo de la nanotecnología que han languidecido en los laboratorios debido a la falta de un método viable de fabricación en grandes cantidades.

El equipo del MIT incluye a Mark Schattenburg, Ralf Heilmann, Chih-Hao Chang y Yong Zhao.




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