Un gas más ligero reduce los daños sufridos por la óptica en la litografía del ultravioleta extremo
(NC&T) En la búsqueda por crear chips de ordenador cada vez más miniaturizados, los fabricantes están explorando la litografía en el ultravioleta extremo como la próxima tecnología destinada a su impresión. Para la fuente de luz de la longitud de onda necesaria, los científicos han escogido un gas caliente, ionizado (un plasma). Pero los iones de alta energía producidos en el plasma pueden dañar al espejo responsable de recolectar la luz.
Añadiendo al plasma una pequeña cantidad de un gas más ligero, los investigadores han logrado una forma de reducir significativamente los daños y extender la vida útil de la óptica que se ocupa de captar la luz.
Agregando esa cantidad pequeña de un gas más ligero, como el hidrógeno, se reduce de manera notable tanto el número como la energía de los iones de xenón que alcanzan la superficie del colector, prolongándose su vida útil, en tanto que la innovación tiene un efecto insignificante en la producción de luz del ultravioleta extremo.
Cuando absorben parte de la energía del plasma, los iones de hidrógeno impiden que los iones de xenón se aceleren hasta el punto en que pueden dañar la superficie del colector, prolongando así la vida útil de éste.
David Ruzic ha descubierto la técnica junto a sus colegas. (Foto: Brian Stauffer)
En realidad, el xenón es el segundo mejor radiador para producir la luz en la longitud de onda deseada. Es posible obtener el triple de luz utilizando estaño, pero resulta un elemento químico poco adecuado pues provoca muchos problemas debido a sus características físicas.
